光刻垄断难解,技术难在哪?|manbext体育官网

本文摘要:人们经常听说高端光刻机不仅便宜,而且是海外的东西,光刻机是什么呢?

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人们经常听说高端光刻机不仅便宜,而且是海外的东西,光刻机是什么呢? 上一篇文章讲述了从原材料到研磨晶片的制作过程,在2020-03-30中谈论光刻~第一步的晶体生长机晶片的生产。上一篇文章已经说过了。

2020-03-30我们谈光刻。我们非常简单地谈论硅的水解(热氧化)。我们稍后再谈光刻。

硅的水解包括分立器件和集成电路的制造过程中遇到的4种薄膜,即热氧化膜、电介质膜、多晶硅膜和金属膜。图中,栅极水解层和场氧化层都是用热氧化法分解的,因为只有热氧化法需要得到比界面陷阱密度低的高品质的水解层。

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热氧化半导体的水解有热氧化法、电化学阳极水解法、等离子化学气相沉积法等多种方法。其中,热氧化法是硅基器件生产中最罕见的、最重要的方法和重要的工艺。还具备电阻加热水解炉和圆筒型熔融石英管而构成。

开槽的石英舟放在石英管中,石英槽用于横向放置硅片,一个流口是高纯度的湿氧或高纯度的水蒸气(即干氧氧化法和湿氧氧化:两者的反应方程式不同,干氧氧化分解的水解层是电因此,比较薄的水解层一般使用干氧氧化。比较硬的使用潮湿的氧气氧化)。

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